Teitreaclóiríd haifniam | Púdar HfCl4 | CAS 13499-05-3 | praghas monarchan

Cur Síos Achomair:

Tá feidhmeanna tábhachtacha ag teitreaclóiríd haifniam mar réamhtheachtaí ocsaíd haifniam, mar chatalaíoch le haghaidh sintéise orgánaí, mar fheidhmeanna núicléacha, agus mar thaisceadh scannán tanaí, rud a aibhsíonn a solúbthacht agus a thábhacht i réimsí teicneolaíochta éagsúla.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Seol ríomhphost chugainn

Sonraí Táirge

Clibeanna Táirge

Cur Síos ar an Táirge

Réamhrá gairid

Ainm Táirge: Teitreaclóiríd Hafniam
Uimhir CAS: 13499-05-3
Foirmle Chomhdhúile: HfCl4
Meáchan Móilíneach: 320.3
Dealramh: Púdar bán

Sonraíocht

Mír	Sonraíocht
Dealramh	Púdar Bán
HfCl4+ZrCl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Feidhmchlár

Réamhtheachtaí Dé-ocsaíd HafniamÚsáidtear teitreaclóiríd haifniam go príomha mar réamhtheachtaí chun dé-ocsaíd haifniam (HfO2) a tháirgeadh, ábhar a bhfuil airíonna tréleictreacha den scoth aige. Úsáidtear HfO2 go forleathan in iarratais tréleictreacha ard-k le haghaidh trasraitheoirí agus toilleoirí sa tionscal leathsheoltóra. Tá HfCl4 riachtanach i monarú gléasanna leictreonacha chun cinn mar gheall ar a chumas scannáin tanaí de dhé-ocsaíd haifniam a fhoirmiú.
Catalaíoch sintéise orgánachIs féidir teitreaclóiríd haifniam a úsáid mar chatalaíoch le haghaidh imoibrithe sintéise orgánacha éagsúla, go háirithe polaiméiriú oileifín. Cuidíonn a airíonna aigéad Lewis le hidirmheánacha gníomhacha a fhoirmiú, rud a fheabhsaíonn éifeachtúlacht imoibrithe ceimiceacha. Tá an feidhmchlár seo luachmhar i dtáirgeadh polaiméirí agus comhdhúile orgánacha eile sa tionscal ceimiceach.
Feidhmchlár NúicléachMar gheall ar a thrasghearradh ard-ionsúcháin neodrón, úsáidtear teitreaclóiríd haifniam go forleathan in iarratais núicléacha, go háirithe i slata rialaithe imoibreoirí núicléacha. Is féidir le haifniam neodróin a ionsú go héifeachtach, mar sin is ábhar oiriúnach é chun an próiseas scoilte a rialáil, rud a chabhraíonn le sábháilteacht agus éifeachtúlacht ghiniúint cumhachta núicléiche a fheabhsú.
Taisceadh Scannán TanaíÚsáidtear teitreaclóiríd haifniam i bpróisis taiscthe gaile ceimicigh (CVD) chun scannáin thanaí d’ábhair bunaithe ar haifniam a fhoirmiú. Tá na scannáin seo riachtanach i réimse feidhmeanna, lena n-áirítear micrileictreonaic, optaic, agus bratuithe cosanta. Mar gheall ar an gcumas scannáin aonfhoirmeacha, ardchaighdeáin a thaisceadh, tá HfCl4 luachmhar i bpróisis déantúsaíochta chun cinn.