Le forbairt thapa 5G, intleachta saorga (IS) agus Idirlíon na Rudaí (IoT), tá méadú as cuimse tagtha ar an éileamh ar ábhair ardfheidhmíochta sa tionscal leathsheoltóra.Teitreaclóiríd siorcóiniam (ZrCl₄), mar ábhar leathsheoltóra tábhachtach, tá sé ina amhábhar fíor-riachtanach do sceallóga próisis chun cinn (amhail 3nm/2nm) mar gheall ar a ról lárnach in ullmhú scannán ard-k.
Teitreaclóiríd siorcóiniam agus scannáin ard-k
I ndéantúsaíocht leathsheoltóirí, tá scannáin ard-k ar cheann de na hábhair thábhachtacha chun feidhmíocht sliseanna a fheabhsú. De réir mar a chrapadh na n-ábhar tréleictreach geata traidisiúnta bunaithe ar sileacan (amhail SiO₂) i gcónaí, druidim a dtiús leis an teorainn fhisiceach, rud a fhágann go méadaítear sceitheadh agus go méadaítear go suntasach an tomhaltas cumhachta. Is féidir le hábhair ard-k (amhail ocsaíd siorcóiniam, ocsaíd hafniam, srl.) tiús fisiceach an tsraithe tréleictrigh a mhéadú go héifeachtach, an éifeacht tollánaithe a laghdú, agus ar an gcaoi sin cobhsaíocht agus feidhmíocht gléasanna leictreonacha a fheabhsú.
Is réamhtheachtaí tábhachtach é teitreaclóiríd siorcóiniam chun scannáin ard-k a ullmhú. Is féidir teitreaclóiríd siorcóiniam a thiontú ina scannáin ocsaíd siorcóiniam ard-íonachta trí phróisis ar nós taisceadh gaile ceimiceach (CVD) nó taisceadh ciseal adamhach (ALD). Tá airíonna tréleictreacha den scoth ag na scannáin seo agus is féidir leo feidhmíocht agus éifeachtúlacht fuinnimh sceallóga a fheabhsú go suntasach. Mar shampla, thug TSMC isteach réimse ábhar nua agus feabhsuithe próisis ina phróiseas 2nm, lena n-áirítear cur i bhfeidhm scannán tairiseach tréleictreach ard, rud a bhain méadú ar dhlús an trasraitheora agus laghdú ar thomhaltas cumhachta amach.
Dinimic an tSlabhra Soláthair Dhomhanda
Sa slabhra soláthair leathsheoltóra domhanda, patrún soláthair agus táirgtheteitreaclóiríd siorcóiniamríthábhachtach d’fhorbairt an tionscail. Faoi láthair, tá ról tábhachtach ag tíortha agus réigiúin ar nós na Síne, na Stát Aontaithe agus na Seapáine i dtáirgeadh teitreaclóiríd siorcóiniam agus ábhair ghaolmhara a bhfuil tairiseach tréleictreach ard acu.
Dul chun cinn teicneolaíochta agus ionchais don todhchaí
Is iad dul chun cinn teicneolaíochta na príomhfhachtóirí i gcur chun cinn chur i bhfeidhm teitreaclóiríd siorcóiniam sa tionscal leathsheoltóra. Le blianta beaga anuas, tá an próiseas um thaisceadh ciseal adamhach (ALD) ina phríomhphointe taighde. Is féidir leis an bpróiseas ALD tiús agus aonfhoirmeacht an scannáin a rialú go cruinn ag an nanoscála, rud a fheabhsaíonn cáilíocht na scannán ard-thairiseach tréleictreach. Mar shampla, d'ullmhaigh grúpa taighde Liu Lei ó Ollscoil Peking scannán neamhchruthach ard-thairiseach tréleictreach trí mhodh ceimiceach fliuch agus chuir siad i bhfeidhm go rathúil é ar fheistí leictreonacha leathsheoltóra déthoiseacha.
Ina theannta sin, de réir mar a leanann próisis leathsheoltóra ag dul chun cinn go méideanna níos lú, tá raon feidhme teitreaclóiríd siorcóiniam ag leathnú freisin. Mar shampla, tá sé beartaithe ag TSMC olltáirgeadh teicneolaíochta 2nm a bhaint amach sa dara leath de 2025, agus tá Samsung ag cur taighde agus forbairt a phróisis 2nm chun cinn go gníomhach freisin. Tá réadú na bpróiseas ardleibhéil seo doscartha ó thacaíocht scannán tairiseach ard-tréleictreach, agus tá tábhacht shoiléir ag baint le teitreaclóiríd siorcóiniam, mar amhábhar tábhachtach.
Mar achoimre, tá ról lárnach teitreaclóiríd siorcóiniam sa tionscal leathsheoltóra ag éirí níos suntasaí. Le tóiriú 5G, AI agus Idirlíon na Rudaí, leanann an t-éileamh ar sceallóga ardfheidhmíochta ag méadú. Beidh ról dochloíte ag teitreaclóiríd siorcóiniam, mar réamhtheachtaí tábhachtach do scannáin ard-tréleictreach, i gcur chun cinn fhorbairt na teicneolaíochta sliseanna den chéad ghlúin eile. Amach anseo, le dul chun cinn leanúnach na teicneolaíochta agus uasmhéadú an tslabhra soláthair dhomhanda, beidh ionchais iarratais teitreaclóiríd siorcóiniam níos leithne.
Am an phoist: 14 Aibreán 2025